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近場掃描光學顯微鏡原理

更新時間:2016-08-22點擊次數(shù):1043

近場掃描光學顯微鏡原理:

使用由熔拉或腐蝕光纖波導所制成之探針,在外表鍍上金屬薄膜已形成末端具有15nm至100nm直徑尺寸之光學孔徑(optical aperture) 的近場光學探針,再以可作精密位移與掃描探測之壓電陶瓷材料(piezo-electrcal ceramics) 配合原子力顯微技術(atomic force microscopy, AFM) 所提供的高度回饋控制,將近場光學探針非常地(垂直與水平于樣品表面的方向之空間解析度可分別達到約0.1nm 與1nm) 控制在被測樣品表面上1nm 至100nm 的高度,進行三維空間可回饋控制的近場掃描(scanning),而具有奈米光學孔徑之光纖探針即可做接收或發(fā)射光學訊息之用,由此獲得一真實空間之三維近場光學影像,因其與樣品表面距離遠小于一般光波波長,測得的信息皆屬近場光學作用的信息,無平常常見的遠場光學中繞射極限的光學解析度限制。

偏光顯微鏡 近場光學顯微鏡的應用:

近場光學顯微鏡(倒置金相顯微鏡)突破傳統(tǒng)光學繞射限制,可直接利用光來觀察奈米材料,分析奈米元件顯微結構及缺陷,近年來已應用在分析半導體雷射元件上。因其具有高解析度,可應用于高密度資料存取,目前已運用此一技術成功制作出超過100 GB 之超解析近場光碟片。此外還可應用于生物分子及蛋白質熒光光近場顯微分析。

近場掃描光學顯微鏡的原理與構造:

一般光學顯微鏡于遠場觀測時,因受到光波的繞射限制,其解析度僅有數(shù)百納米左右。但若在近場觀測時,可避免繞射及干涉的產生,能克服繞射限制,將解析度提升至數(shù)十納米左右。

近場掃描光學顯微鏡的結構中,以末端背有數(shù)十納米口徑的錐狀光纖為探針。將探針和被測物的距離控制在近場觀測范圍內,利用可精密定位與掃描探測的壓電陶瓷,并配合原子力顯微鏡所提供的高度回饋控制系統(tǒng),進行三維空間近場掃描。再由光纖探針接收或發(fā)射光學訊號,以獲得三維近場光學影像。

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