產(chǎn)品型號：SAL1000G
更新時間：2024-11-07
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
訪 問 量 ：2716
021-58362582
產(chǎn)品分類
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SAL1000G原子層沉積系統(tǒng)特點：
- 多樣性 -
· 真空可移動的手套箱可以處理易氧化的樣品。
· 前驅(qū)體標(biāo)配兩組閥門和氣瓶。
· 可選擇將前驅(qū)體加熱至200攝氏度。
· 可選擇基片自動旋轉(zhuǎn)支架。
· 可選擇粉體沉積配件。
· 可選擇經(jīng)濟實惠的廢氣處理設(shè)備。
- 表現(xiàn) -
· 保證基片表面上的每個均勻原子層針孔自由層沉積。
· 通過階梯覆蓋沉積在不均勻或3D形狀的表面。
· 與CVD和PVD相比，可以獲得更好的沉積，特別是對于具有更高縱橫比和多孔沉積材料。
- 操作界面友好 -
· 觸摸屏使用戶可以輕松設(shè)置配方或沉積過程，并檢查每個驅(qū)動系統(tǒng)的運動。
· 可進行自動沉積，并在沉積完成后自動完成N2排放。
· 手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動完成。
- 安全性 -
· 這是具有各種互鎖功能的高級設(shè)備。
- 具有輕柔關(guān)閉功能的頂部艙口使用戶可以輕松地裝載和卸載基片。
SAL1000G原子層沉積系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)：
性能 | |||
真空度 | 到達壓力 | ≤5Pa | |
成膜性能 | 膜厚分布 | ≤± 3% （φ 100mm） | |
設(shè)備構(gòu)成 | |||
設(shè)備型號 | SAL1000G | ||
成膜方向 | 下表面 | ||
基底尺寸 | φ 100mm or 4 inch Max | ||
基底加熱器溫度 | 350℃ Max | ||
前驅(qū)體數(shù) | 2 | ||
前驅(qū)體溫度 | 150℃ Max | ||
凈化氣體 | N2 （氣體控制：帶流量計針型閥） | ||
手套箱 | 有機玻璃，真空-氮氣吹掃式 | ||
真空泵 | 162L/min 旋片式真空機械泵 | ||
重量 | 本體：50kg，手套箱：35kg，真空泵：27kg | ||
可選配置 | 基片自動旋轉(zhuǎn)支架 粉體沉積配件 廢氣處理設(shè)備 前驅(qū)體加熱器- 200℃ | ||
安裝要求 | |||
電源要求 | 電源 | 3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz | |
接地 | ＜100Ω | ||
線纜 | 5m 附贈 | ||
N2吹掃氣體 | 供給壓力 | 0.1 ~.0.2Mpa | |
接口 | 1/4 Swagelok | ||
壓縮空氣 | 供給壓力 | 0.6 ~0.8Mpa | |
接口 | φ6mm 接口 | ||
真空泵排氣口 | 排氣口 | KF-25法蘭 | |
設(shè)備排氣口 | 排氣口 | φ38mm x L28軟管適配器 | |
安裝尺寸 | W1000 x D700 x H900 | ||
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